在感光化學(xué)領(lǐng)域中，蝕刻技術(shù)是用光刻腐蝕加工薄形精密金屬制品的一種加工技術(shù)。原理是在金屬基片上均勻涂抹化學(xué)感光材料，然后再把圖形復制到覆蓋在基片上的感光掩膜，在曝光過(guò)程中除去未感光部分的掩膜，裸露出的部分基片在后續的加工過(guò)程中會(huì )被蝕除。那么，菲林底片在進(jìn)行蝕刻工序的時(shí)候，它又是怎么完成曝光的呢？

首先將需蝕刻的圖形通過(guò)光繪的方式轉移至兩張完全一致的膠片菲林上，或是通過(guò)光刻的方式轉移至兩張完全一致的玻璃菲林上。然后通過(guò)人工對位方式或機器對位方式將菲林對準。再將已涂布感光油墨或貼好感光干膜的鋼片置于菲林中間，即可曝光。曝光時(shí)對應菲林黑色處的鋼片未被感光，對應菲林白色處的鋼片感光，鋼片感光處的油墨或干膜發(fā)生聚合反應。最后經(jīng)過(guò)顯影機，鋼片上被感光的油墨或干膜不被顯影液溶化，而未感光的油墨或干膜在顯影液被溶化去除，這樣需蝕刻的圖形通過(guò)曝光就轉移到鋼片上去了。

曝光是在紫外光照射下，光引發(fā)劑吸收光能分解成游離基，游離基再引發(fā)不聚合單體進(jìn)行聚合交聯(lián)反應，反應后形成不溶于稀堿溶液的立體形大分子結構。曝光一般在自動(dòng)曝光機內進(jìn)行，現在的曝光機根據光源的冷卻方式不同，分為風(fēng)冷和水冷兩種。曝光成像質(zhì)量除干膜光致抗蝕劑的性能外，光源的選擇，曝光的時(shí)間（曝光量）的控制，照相底版的質(zhì)量等都是影響曝光成像質(zhì)量的重要因素。

當曝光不足時(shí)，由于單體聚合不徹底，在顯影過(guò)程中，膠膜溶漲變軟，線(xiàn)條不清晰，色澤暗淡，甚至脫膠，在蝕刻過(guò)程中膠膜起翹，滲鍍，甚至脫落；當曝光過(guò)度時(shí)，會(huì )造成難于顯影，膠膜發(fā)脆，留下殘膠等弊病。曝光將產(chǎn)生圖像線(xiàn)寬的偏差，過(guò)量的曝光會(huì )使圖形線(xiàn)條變細，使產(chǎn)品的線(xiàn)條變粗。根據顯影后干膜的光亮程度，圖像是否清晰，圖像線(xiàn)寬是否與原底片相符等來(lái)確定適當的曝光時(shí)間。

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